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Zur Senkung der Kosten für die Metallisierung von Solarzellen mit passivierenden Kontakten soll statt Silber Aluminium-Siebdruck verwendet werden. Da sich das amorphe oder poly-kristalline Silizium aber sehr gut in Aluminium löst, muss das polySi von einer Barriereschicht geschützt werden. In dem hier beantragten Vorhaben KOBRA soll es daher um die Entwicklung einer geeigneten Barriereschicht gehen, die mit einem PECVD-Verfahren abgeschieden werden kann. Die Verwendung einer PECVD-Anlage ermöglicht es die polySi-Schicht und die Barriereschicht in einem System und ohne Unterbrechung des Vakuums abzuscheiden.